集成电路布图设计复制权是指权利人有权重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。集成电路布图设计商业使用权是指集成电路布图设计权利人有权将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的权利。我国《集成电路布图设计保护条例》第十二条规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。