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(来学网)
下列关于集成电路布图设计反向工程的说法,错误的是()。
A.
(来学网)
通过技术手段对受保护的布图设计获取技术信息的,可以直接复制进行商业利用
B.
(来学网)
可以是通过技术手段对受保护的布图设计进行评价而获取有关技术信息
C.
(来学网)
仍需创作出具有独创性的布图设计
D.
(来学网)
受保护的布图设计需从公开渠道取得
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章节练习
第1章 知识产权基础
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第2章 专利申请
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第3章 专利保护
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第4章 专利运用
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第5章 商标基础
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第6章 商标使用
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第7章 商标保护
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第8章 著作权
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第9章 地理标志
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第10章 商业秘密
试做
第11章 集成电图布图设计
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